真空除气储存柜的放置

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，硅片除气装置，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。
使用前注意电压是否正确，硅片除气装置价格，仅适用机台上所标示之电压，避免电过量，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，以防漏电；

请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。
试验结速后，站侧面打开箱门，硅片除气装置哪家好，以免热气烫到面部。

真空除气炉的构成介绍

本系统主要分为机械与电控两大部分。
下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空箱室单元由真空箱、真空测量装置、加热烘烤组件、管道阀门等组成。

真空箱：采用304不锈钢材质制造，分为上中下三个独立的真空箱室，硅片除气装置公司，其内表面在加工后经除油、电抛光处理，保证了较少的藏气，提高了真空箱室的抽空效率和极限真空。
真空箱室外部有加强筋，保证真空箱室承压能力。
每个真空箱室门中间部位各具有一个Φ100石英观察窗，真空箱室与真空获得系统采用柔性软管连接，方便快捷，并减少震动。
真空箱室开门为上中下三开门，氟胶圈型式密封，向右侧侧开门。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

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