真空除气存储柜工艺流程

真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。

该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。
用户可根据实际情况需要，硅片除气装置价格，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。
当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。

设备具有很高的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，硅片除气装置公司，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。
并可以提供20 组不同的参数组，供客户选择和修改。
并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

①　设备占地面积约：长2米，硅片除气装置生产厂家，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

②　电源：380 V±38 V，天津硅片除气装置，50 Hz±0.5 Hz，约15KW（外部电源用户自备）；

③　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

④　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

⑤　相对湿度：  20%-85%；

⑥　设备应安装在通风良好的厂房内。

真空除气储存柜主要参数

1、炉型结构：卧式与立式，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。
由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。

2、极限温度：1500℃

3、工作区尺寸：按照用户需求定制

4、设备总功率：20-100 KW（含加热系统、真空机组、制冷机）

5、电源频率：50Hz

6、电源电压：三相380 V（±10V）

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